GH1140    0.08    0.14    0.47    21.60    0.44    0.91    -    2.31    余    37.42    1.63
GH4098    0.02    0.03    0.06    18.52    2.74    1.19    5.92    3.96    0.10    余    5.81
GH5605    0.10    1.77    0.08    19.92    -    -    余    -    0.52    10.55    15.16

试样尺寸为(mm):(1.2~2.5)×10×20,表面用600#砂纸磨光。氧化实验在箱式电炉内进行,温度为750~950℃,采用静态增重法测定合金的氧化动力学曲线,在保温1~100 h后,取出坩埚冷却至室温后,在精度为0.1 mg的电子天平上称重。用光学显微镜(OM)、带能谱的扫描电镜(SEM)分析氧化物表面形貌及其成分组成;采用XRD衍射技术对合金氧化产物的相组成进行分析。用Origin软件进行数据处理,并绘制氧化动力学曲线。
 
从氧化动力曲线(图1-5)看出,GH1140合金氧化初期,氧化速度较快,属于氧化膜形成期,表面最易形成的是Cr2O3,和Fe2O3氧化膜,并有少量的A12O3和TiO。随着铬的选择性氧化发生,膜与合金界面处合金中铬含量将下降,Fe2O3和Cr2O3共同作用可以形成具有尖晶石结构的(Cr,Fe)O,氧化物,破坏氧化膜的连续性,使该合金在高温下氧化
增重明显,因此该合金在3种试验合金中的抗氧化性是最弱的。
镍基合金GH409,氧化初期,合金中的Ni、Cr和AI等元素同时氧化形成很薄的NiO、Cr2O3,和A12O3膜,Cr2O3由合金晶界形核并覆盖在NiO和A12O3,膜上。NiO颗粒被Cr2O3包围并逐渐发生固相反应形成NiCrO复合尖晶石相。根据多元合金选择性氧化的基本规律,活泼元素Al、Ti发生选择性氧化。随着氧化的进行,在外层和基体的界面出现了A12O3聚集。Ti元素在向外扩散过程中分别在Cr2O3层的外表面以及Cr2O3膜和基体问氧化形成TiO。因此氧化区形成外层氧化物为Cr2O3。,NiCr2O4、少量NiO和微量TiO,内层氧化物为少量的Al,O和TiO。
钴基合金GH5605,在氧化初始阶段,合金中Co和Cr同时氧化,形成很薄的CoO和CrO膜。随着氧化时间的延长,氧化主要由CrO。膜中的扩散所控制,基体中的Cr不断向外扩散、O向内扩散,继续结合生成新的氧化膜,当氧化膜的厚度达到一定程度时,就起到了阻碍O和Cr接触的作用,且氧化膜的结构致密,缺陷少,使元素的传输缓慢,在动力学曲线中就表现出氧化增重趋于平稳阶段,遵循抛物线规律。合金950℃以下不发生内氧化现象,氧化膜主要由Cr2O3、Co3W,CrMn2O4及少量的MnCr2O4构成。
所以,(1)3种合金在750~900℃氧化100 h的抗氧化性由强到弱的次序为:镍基合金GH4098>钴基合金Gtt5605>铁基合金GH1140;而950℃的次序变为:GH5605>GH4098>GH1140。
(2)CH1140合金的氧化膜组成:750℃为(Cr、Fe)2O3+Fe2O3;800℃和850℃为Cr2O3(多)及少量Fe+2Cr2O4 GH4098氧化膜的主要成分:Cr2O3+NiCr2O4+少量NiO。GH5605氧化膜的主要成分:Cr2O3+Co3W+CrMn2O4。[13]
1.8本文的研究目的与意义
本实验的目的是初步研究牌号为DZ445的高温合金,在恒定900℃的温度下的氧化行为。为了全面了解金属在不同条件下的高温腐蚀行为,则需要研究与腐蚀反应相关的各个方面,其中包括反应速度,反应产物的成分,晶体结构,形貌和微观结构,以及基体金属的变化等,从而为该合金的应用提供实验基础与理论依据。
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