真空卷绕镀膜机国内外研究现状
现代薄膜技术的开拓者德国学者马克斯.奥文将教授，早在20世纪30年代中期，他己开始研究和生产光学薄膜。而我国真空镀膜设备研究始于20世纪50年代，当时研制了各种蒸发式真空镀膜设备，满足了光学事业发展需要。进入上世纪70年代以后，由于国民经济各种领域的需求，各种真空镀膜设备长足的发展。目前各类镀膜设备基本齐全，种类繁多满足各行各业的需求。真空镀膜设备主要类型有真空蒸发镀膜设备、磁控溅射镀膜设备、离子镀膜设备、化学气相沉积镀膜设备等。
上个世纪90年代末，磁控溅射镀膜设备成功运用在发泡镍（电池电极），真空镀膜机磁控溅射原理是在真空氛围中，荷能粒子或粒子束入射到固体表面上，使靶材表面获得部分能量，当其动能超过周围原子形成的势垒时，这个原子由从晶格阵点中被碰出来，进入真空中由于离子易于被电场加速或偏转，故真空溅射镀均选择离子束轰击靶材，使其原子被溅射出来沉淀到卷绕材料上形成薄膜。为实现镀层均匀，稳定连续性等特点，达到高产量、高生产率、高质量的要求，必须保证设备卷绕系统线速度恒定，提高卷绕系统过程和操作的自动化控制己成为发展的必然趋势。
国际上目前利用真空卷绕镀膜技术的设备在各个行业里都得到了应用。利用电阻蒸发原理的镀膜技术已趋于完全成熟，应用感应蒸发原理及磁控溅射原理的真空卷绕镀膜设备及电容器镀膜也有生产并大量运用，基于大功率电子束加热蒸发原理的真空卷绕镀膜设备也已推向市场。技术方面,目前国内真空卷绕镀膜设备多为二、三电机驱动的基材卷绕系统（四电机系统也有少量）,蒸发电源为变压器电源，设备控制多为手控，可镀膜系有限。而发达国家的真空卷绕镀膜设备则多为三、四电机驱动的基材卷绕系统，蒸发电源已有用较小体积的开关电源，设备控制多为全自动化的闭环自控,人机界面友好，可镀膜系较宽。真空卷绕镀膜技术及设备应用前景非常广阔。近几年我国在这个市场因产量的提高和老设备换代的需要，需求越来越大。在国外，用真空卷绕镀膜技术生产功能技术性产品的设备遍布各地,用此类设备生产一次性包装用品在发展中国家和地区也很多。所以目前市场对真空卷绕镀膜技术及设备应用水平进一步提高的要求是非常迫切的，这也是市场经济发展的必然。
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